粉體行業(yè)在線展覽
科研級磁控濺射設(shè)備—MS-300
面議
致真精密
科研級磁控濺射設(shè)備—MS-300
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MS-300磁控濺射設(shè)備具有超高真空、單原子層沉積精度的特點,可以靈活選擇陰極向上或向下濺射。設(shè)備標(biāo)配3個2英寸超高真空陰極。滿足實驗室中科學(xué)研究的需求,維護(hù)簡單,運行穩(wěn)定。
觀察窗擋板
傾斜式高溫樣品臺
蒸發(fā)源
圓形互聯(lián)設(shè)備(外置機(jī)械臂、內(nèi)置機(jī)械臂)
兩個鍍膜系統(tǒng)直接互聯(lián)設(shè)備
超高真空管道傳輸設(shè)備
晶圓真空傳輸平臺—VTM
量產(chǎn)型磁控濺射設(shè)備—MSI-200
生產(chǎn)型磁控濺射設(shè)備—MSI-100-UHV
生產(chǎn)型磁控濺射設(shè)備—MSI-100-HV
量產(chǎn)級多功能薄膜沉積設(shè)備
分子束外延設(shè)備—MBE-400
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
自動劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)