粉體行業在線展覽
粉體行業在線展覽
量產級多功能薄膜沉積設備
直接聯系
合肥致真精密設備有限公司
安徽
面議
致真精密
量產級多功能薄膜沉積設備
457
該設備基于晶圓真空傳輸平臺VTM，可以靈活配備傳輸腔室和工藝腔室，工藝腔室可選配電子束蒸發腔室、分子束外延腔室、濺射腔室、熱蒸發腔室和預清洗腔室等。可實現多種材料的精確沉積。
性能參數
| 晶圓尺寸 | 8~12吋 |
| 極限真空 | 優于5×10-9mbar（工藝室PM） 優于5×10-7mbar（傳輸室TM） 優于5×10-6mbar（進樣室Load lock） |
| 工藝室 | 可選配電子束蒸發腔室、分子束外延腔室、熱蒸發腔室、預清洗室、濺射室、退火室、低溫室、蒸發室、氧化室等 |
| 傳輸室 | 可選四邊形、六邊形或八邊形腔室，可實現多個傳輸室互聯，配置雙臂或單臂機械臂，配置校準和測量裝置 |
| 進樣室 | 8或12吋晶圓，可選EFEM等前端模塊 |
| 詳細配置可咨詢業務 |
觀察窗擋板
傾斜式高溫樣品臺
蒸發源
圓形互聯設備（外置機械臂、內置機械臂）
兩個鍍膜系統直接互聯設備
超高真空管道傳輸設備
晶圓真空傳輸平臺—VTM
量產型磁控濺射設備—MSI-200
生產型磁控濺射設備—MSI-100-UHV
生產型磁控濺射設備—MSI-100-HV
量產級多功能薄膜沉積設備
分子束外延設備—MBE-400
