粉體行業在線展覽
面議
703
儀器簡介:
歐洲先進的無掩膜激光直寫系統,*小線寬可達 100nm,為MEMS, BioMEMS, Micro Optics, ASICs, Micro Fluidics, Sensors, CGHs等以及相關微納米結構領域的科研工作者,提供強有力的手段!
技術參數:
加工線寬:*小可達 100nm;
主要特點:
多種曝光模式:
2D曝光模式:構建二維納米結構;
3D曝光模式:可加工三維納米結構;
壓電驅動平臺配合精密自動驅動平臺,具有更高的水平定位分辨率;
系統自動聚焦、糾斜、對準;
多功能試樣夾具;
快速樣品樣品更換:<1秒;
專業圖形設計軟件:支持導入CAD設計軟件,2D和3D隨意簡單設計;