粉體行業在線展覽
晶圓真空傳輸平臺—VTM
面議
致真精密
晶圓真空傳輸平臺—VTM
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晶圓真空傳輸平臺采用四邊形、六邊形或八邊形設計,可以實現多個工藝室的互聯,系統可選配機械臂和校準裝置,可實現8或12吋晶圓的自動傳輸。系統搭配控制軟件可實現安全可靠的控制。
性能參數
晶圓尺寸 | 8或12吋 |
極限真空 | 優于5×10-7mbar |
前端模塊 | 可選EFEM等 |
對接口 | 四個,六個,八個(可實現多套互聯) |
機械臂 | 可選單臂和雙臂,定位精度±0.1mm |
校準裝置 | 對準器,校準傳感器 |
真空系統 | 機械泵+分子泵,可選離子泵等 |
控制系統 | PC+PLC 安全互鎖,碰撞保護,真空互鎖等 |
標準 | SEMI |
觀察窗擋板
傾斜式高溫樣品臺
蒸發源
圓形互聯設備(外置機械臂、內置機械臂)
兩個鍍膜系統直接互聯設備
超高真空管道傳輸設備
晶圓真空傳輸平臺—VTM
量產型磁控濺射設備—MSI-200
生產型磁控濺射設備—MSI-100-UHV
生產型磁控濺射設備—MSI-100-HV
量產級多功能薄膜沉積設備
分子束外延設備—MBE-400