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卡爾蔡司（上海）管理有限公司.
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蔡司GeminiSEM 系列產品具有出色的探測效率，能夠輕松地實現亞納米分辨成像。無論是在高真空還是在可變壓力模式下，更高的表面細節信息靈敏度讓您在對任意樣品進行成像和分析時都具備更佳的靈活性，為您在材料科學研究、生命科學研究、工業實驗室或是顯微成像平臺中獲取各種類型樣品在微觀世界中清晰、真實的圖像，提供靈活、可靠的場發射掃描電子顯微鏡技術和方案。
GeminiSEM 450 具有出色的易用性設計、更快的響應和更高的表面靈敏度，使其能快速、靈活、可靠地對樣品進行表面成像和分析，充當您的得力助手
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GeminiSEM 450更快的響應和更高的表面靈敏度使其能快速、靈活、可靠地對樣品進行表面成像和分析，簡便、快速地進行EDS能譜和EBSD等分析，同時保持出色的空間分辨率，充當您的得力助手。
在EDS能譜和EBSD分析模式下仍保持高分辨率的成像，在低電壓條件下工作時更為優異；
可快速地對樣品進行大范圍及高質量成像；
經優化的電子光學鏡筒，減少了工作過程中進行重新校準的復雜流程，節省成像時間，提高工作效率；
無論是不導電樣品、磁性樣品或是其他類型的樣品，無論是高真空或是可變壓力模式，均可實現快速和高質量的成像和分析.
要實現對任意樣品都能進行高質量的測試和表征，掃描電子顯微鏡必須在成像和分析方面都具備優異的性能，同時能給用戶簡單易用的操作體驗。如今，Gemini 2鏡筒可滿足您在這些方面的各種需求：
GeminiSEM 450 配置雙聚光鏡的Gemini 2類型電子光學鏡筒；
在確保獲得出色的小電子束斑的同時，束流連續可調；
可在低束流的高分辨率成像與高束流的分析模式之間進行無縫切換；
調整工作參數后無需對電子束進行重新校準，為您節約時間，提高儀器效率；
操作靈活易用，高電子束能量密度下的高分辨率成像，低束流分析，高束流分析等各類不同的工作模式，一切由您而定；
物鏡無漏磁設計，在大視野范圍成像和EBSD分析中不會引起畸變，確保獲得樣品高質量的圖像；
出色、穩定的電子光學鏡筒，對各種類型的樣品都能簡單快速的進行高分辨率成像，即使在使用中樣品需要傾斜，甚至是對磁性樣品進行成像；
P搭載局部電荷中和器或NanoVP可變壓力模式，有效地消除樣品的表面荷電，讓您在出色參數下對樣品進行成像和分析.
技術參數：
| 基本規格 | 蔡司 GeminiSEM 450 | ||
|---|---|---|---|
| 熱場發射電子槍，穩定性優于0.2 %/h | |||
| 加速電壓 | 0.02 - 30 kV | ||
| 探針電流 | 3 pA - 40 nA | ||
| （100 nA或300 nA配置可選） | |||
| 存儲分辨率 | **達32k × 24k 像素 | ||
| 放大倍率 | 12 – 2，000，000 | ||
| 標配探測器 | 鏡筒內Inlens二次電子探測器 | ||
| 樣品室內的Everhart Thornley二次電子探測器 | |||
可選配的 項目 | |||
| NanoVP可變壓力模式 | |||
| 高效VPSE探測器（包含在NanoVP可變壓力選件中） | |||
局部電荷中和器 鏡筒內能量選擇背散射探測器 環形STEM探測器（aSTEM 4） 角度選擇背散射探測器 EDS能譜儀 EBSD探測器(背散射電子衍射) | |||
| 可訂制特殊功能樣品臺 | |||
| 環形背散射電子探測器 | |||
| 陰極射線熒光探測器 | |||
