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桌面式磁控濺射設(shè)備—MS-200
直接聯(lián)系
合肥致真精密設(shè)備有限公司
安徽
面議
致真精密
桌面式磁控濺射設(shè)備—MS-200
442
MS-200磁控濺射設(shè)備是一款小型臺(tái)面式濺射系統(tǒng)，具有高真空、單原子層沉積精度的特點(diǎn)，可以靈活選擇陰極向上或向下濺射。設(shè)備標(biāo)配1個(gè)2英寸超高真空陰極。滿足簡(jiǎn)單的材料研究需求。
晶圓尺寸 | 4inch向下兼容 |
鍍膜均勻性 | 優(yōu)于±2% |
極限真空 | 1×10-8mbar |
溫控 | RT-800℃ |
陰極數(shù)量 | 3個(gè)2inch靶頭共焦濺射 |
產(chǎn)品咨詢
桌面式磁控濺射設(shè)備—MS-200
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晶圓真空傳輸平臺(tái)—VTM
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生產(chǎn)型磁控濺射設(shè)備—MSI-100-UHV
生產(chǎn)型磁控濺射設(shè)備—MSI-100-HV
量產(chǎn)級(jí)多功能薄膜沉積設(shè)備
分子束外延設(shè)備—MBE-400
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)
