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德國Raith EBPG5150 電子束光刻機

詳細介紹

EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟EBPG5200一樣的通用光刻平臺設計，對電子束直寫應用進行了優化。它可以載入不同大小的樣品，包括多片散片以及完整的硅片。

高束流密度，熱場發射電子槍可以在20、50和100kV之間切換155mm的平臺

*小曝光特征尺寸小于8nm

高速度曝光，可采用50或100MHz的圖形發生器

在所有KVs加速電壓下，可連續改變的寫場大小，**可以到1mm

GUI人機交互界面友好，簡潔易用，適用于多用戶環境

多項靈活可選擇的配置，可以適用于不同應用的需求

可選的系統增強升級

EBPG5150可以選擇不同的升級選項，以滿足用戶不同的技術和預算需求。讓全世界的高校等研究類用戶也可以使用這款非常先進、高自動化的電子束光刻系統。

EBPG5150 應用

· 電子束曝光用于制作GaAs T型器件

· 微盤諧振器

· 開口環諧振器

EBPG5150 產品詳情

主要應用：

· 100KV高加速電壓可用于曝光高深寬比納米結構

· 高速電子束直寫

· 批量生產，如化合物半導體器件

· 防偽標識

電子光學柱技術：

· EBPG

· 電子束

· 100 kV

樣品臺：

· 覆蓋完整6英寸硅片大小

· 標配2工位自動化上料

(10工位可選)