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面議
990
海德堡Heidelberg 高級(jí)大型2D,3D直寫光刻機(jī)DWL 8000
大面積瞄寫系統(tǒng):DWL 8000
搭配海德堡的精密軟件控制可以讓您在大面積范圍中,也可以瞄寫2維和3維圖形的DWL 8000系列,是針對(duì)微光學(xué)領(lǐng)域的2維和3維的微構(gòu)造形式所制作。
對(duì)于激光圖形生成器,MEMS,Displays 和sensors 都有加寬,加高的設(shè)計(jì)。DWL 8000精確的溫度控制,動(dòng)態(tài)的焦點(diǎn)追蹤,closed loop位置決定,確保**布置和完全覆蓋性的直寫范圍。
DWL 8000多年的經(jīng)驗(yàn)累積,使Gray Scale曝光技術(shù),可以更有效率于更小的系統(tǒng)上直寫更大的區(qū)域范圍。在使用高分辨率技術(shù)掩模板上,使用曝光強(qiáng)度經(jīng)過(guò)調(diào)整的激光,可在連續(xù)表面上形成1個(gè)復(fù)雜的3維樣式。
主要功能:
。*小描繪尺寸:0.7um
。*小直寫尺寸:20nm
。5種描繪模式
。可轉(zhuǎn)換成自動(dòng)描繪模式
。進(jìn)階3維繪畫方式
。里測(cè)/校直用照相機(jī)系統(tǒng)
。選擇線上(Online)傳送繪畫數(shù)據(jù)
。自動(dòng)基板加載系統(tǒng)
。多種多樣的繪畫數(shù)據(jù)輸入格式(DXF,CIF,GDSLL,Gerber,STL)
。Stage Map補(bǔ)正
。Edge detectof unit
應(yīng)用范圍:
。Micro-optics
。MEMS
。Display
。Micro-sensor
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)