海德堡掩膜版光刻機VPG+ 800/1100/1400

大尺寸掩膜版生產工具平行化曝光制程技術

熱銷的VPG（Volume Pattern Generator）系列-全球安裝已超過50臺。自成立以來，隨著技術的進步，VPG產能不斷得到進一步提升。整體的高速光學調制器有了飛躍性表現-升級后的系列命名為：VPG+。

大光刻面積VPG+：技術的**大光刻面積的VPG +維持原VPG系列為根基再進化，使其更加出色。VPG于2007年推出; 是擁有**的量產型曝光技術光刻系統，可靠和經濟的解決方案，適用于要求嚴謹的掩膜板制造。

速度更快：超高速曝光VPG+系列具有海德堡所研發的高速光學調制器，在速度**化下，曝光時間可以達到原始VPG的三倍！強化了曝光動能與數據傳輸路徑。

功能和選項：配備性能VPG +可配置各種平臺尺寸，**可達1400mmx1400mm。 該系統具有355nm波長的紫外激光源，空氣軸承平臺，半自動或全自動入料器，用于基板裝載和***的溫控環境室。

應用：光罩制造和直接寫入大光刻面積的VPG +系統適用于advanced packaging， semiconductors， displays， color filters， light emitting diodes， touch panel以及life science應用。出色的圖像質量和對位功能，也非常適合在大面積執行多層套刻直寫。

VPG+ **型的設備VPG+ 1400專門針對顯示器相關行業應用：是所有VPG+系列中功能*強大，具有極其完善的溫控環境室，差分干涉儀和先進的mura校正以及面板間距優化功能。

Application

Micro-optics， MEMS， Display， Micro sensor

功能: Function

Substrates up to size of 800 x 800， 1100 x 1100 and 1400 x 1400 mm2 respectively Minimum structure size: 0.75μm Address grid down to 12.5nm Ultra-high-speed exposure engine High power DPSS laser with 355nm Multiple write modes Automatic write mode exchanger Metrology and alignment system Climate chamber Online data transfer Automatic loading system Multiple data input formats(DXF， CIF， GDSII， Gerber) Stage map correction Edge detector unit Mura correctio