粉體行業(yè)在線展覽
面議
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靈敏度:對半導體材料電學缺陷有**靈敏度
溫度范圍:液氮(77k)至500k??蛇x:液氦(4k)或更高溫度
衰減常數(shù)范圍:20納秒到幾毫秒
沾污檢測:電學陷阱基本性能確定:激活能和陷阱的俘獲截面,受溫度和注入水平影響的少子壽命參數(shù)等
重復性:> 99.5%,測量時間:< 60分鐘。液氮消耗:2升/次
靈活性:從365 nm 到1480nm,根據(jù)不同材料選擇不同波長激發(fā)光源
可訪問性:基于IP的系統(tǒng)允許來自世界任何地方的遠程操作和技術支持
圖2.不同缺陷的評價 圖3.Arrhenius曲線圖
從Arrhenius斜率(圖3)可以確定活化能。利用這種新型MDPpicts設備,可在20~500k范圍內測量溫度依賴性的瞬態(tài)光電導。Si, GaAs, InP, SiC和其他很多半導體材料已成功采用了這種方法進行研究。