粉體行業在線展覽
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TAHOE清洗設備
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盛美半導體設備（上海）股份有限公司
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盛美半導體
TAHOE清洗設備
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槽式SPM清洗模塊與單片清洗腔體相結合來進行去膠工藝。SPM的壽命可通過使用時間和工藝片數來控制。現階段，SPM的使用量跟單片高溫清洗設備相比能減少80%以上。
單片晶圓腔體內可配置通用藥液比如DHF,SC1,SC2和O3。可按要求配置噴嘴和/或者兆聲波清洗來提高去除顆粒污染物的效率。
工藝的順序可靈活設置，該設備可按照不同的產品需求進行槽式清洗工藝或者只進行單片清洗工藝。
