粉體行業(yè)在線展覽
立式爐設(shè)備
面議
盛美半導(dǎo)體
立式爐設(shè)備
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具有高產(chǎn)、可靠和穩(wěn)定的性能。通過高精度的溫度控制技術(shù)、良好的均勻性和小顆粒控制,來保持優(yōu)異的薄膜質(zhì)量;
通過更高性能的增強(qiáng)設(shè)計實現(xiàn)高產(chǎn)能,并減少停機(jī)維護(hù)時間;
運(yùn)用氣體對腔體進(jìn)行干法清洗,來控制小顆粒雜質(zhì);
裝載區(qū)運(yùn)用低氧控制技術(shù)以抑制晶圓表面的自然氧化。
可以一次性操作裝載的晶圓數(shù)量為50-125片(晶圓/批)
可配備快速升降溫控制系統(tǒng)
腔體原位干法清洗系統(tǒng)
電鍍設(shè)備X
單片清洗設(shè)備
Post-CMP清洗設(shè)備
無應(yīng)力拋光設(shè)備
濕法去膠設(shè)備
濕法刻蝕設(shè)備
顯影設(shè)備
涂膠設(shè)備
電鍍設(shè)備A
PECVD設(shè)備
前道涂膠顯影設(shè)備
立式爐設(shè)備
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
合金分析儀
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
GPZT-JH10/4W
NJ-80型
X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
NVT-HG型 單晶生長爐