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美Nano-master兆聲晶圓清洗機(jī)SWC-4000

產(chǎn)品特點(diǎn)：

SWC-4000兆聲晶圓清洗機(jī)：Nano-Master兆聲單晶圓及掩模版清洗機(jī)提供高可重復(fù)性、高均勻性及Z先進(jìn)的兆聲清洗。它可以在一個(gè)工藝步驟中包含了**的無(wú)損兆聲清洗、化學(xué)試劑清洗、刷子清洗以及干燥功能。

SWC-4000兆聲晶圓清洗機(jī)應(yīng)用：

。帶圖案或不帶圖案的掩模版和晶圓片

。Ge， GaAs以及InP晶圓片清洗

。CMP處理后的晶圓片清洗

。晶圓框架上的切粒芯片清洗

。等離子刻蝕或光刻膠剝離后的清洗

。帶保護(hù)膜的分劃版清洗

。掩模版空白部位或接觸部位清洗

。X射線及極紫外掩模版清洗

。光學(xué)鏡頭清洗

。ITO涂覆的顯示面板清洗

。兆聲輔助的剝離工藝

特點(diǎn)：

。支持12"直徑的圓片或9"x9"方片

。獨(dú)立系統(tǒng)

。無(wú)損兆聲，試劑，毛刷清洗及旋轉(zhuǎn)甩干

。微處理機(jī)自動(dòng)控制

?；瘜W(xué)試劑滴膠單元

。溶劑與酸分離排廢

。熱氮

。30"D x 26"W 的占地面積

選配項(xiàng)：

。掩模板或晶圓片夾具

。臭氧清洗

。PVA軟毛刷清洗

。高壓DI清洗

。氮?dú)怆x子發(fā)生器