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該設備為微波等離子化學氣相沉積系統（MWCVD）。采用2.45GHz頻率微波源，激發穩定的等離子體。電場激發模式為TM021模式，該系統可以穩定生長金剛石單晶材料、多晶晶圓。通過工藝調節，可以穩定生長出 2 英寸到3英寸的金剛石晶圓薄膜。

       主要應用領域：半導體襯底、熱沉片、珠寶、刀具、機械密封、新一代移動通信、智能電網、消費類電子等。

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       主要應用領域：半導體襯底、熱沉片、珠寶、刀具、機械密封、新一代移動通信、智能電網、消費類電子等。