粉體行業在線展覽
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邁可諾技術有限公司
美國
面議
400
品牌：恩科優（N&Q）
型號：NXQ400-8
產地：美國
恩科優光刻機分為半自動和全自動兩大系列。其中，N&Q4000系列光刻機是以半自動系統為主。該系統優越的操作性，超高的分辨率，均勻的光學系統，現代先進的接近式和接觸式光刻及超高的性價比，使恩科優光刻系統已經被全國各地眾多**企業、研發中心、研究所和高校采用，并成為他們光刻系統的**；
二、技術參數：
1、芯片尺寸：5mm~200mm的圓片/方片和不規則碎片（支持對不規則碎片的特殊卡盤設計）；
2、曝光波長：350nm-450nm（其它波長可選配）；
3、汞燈功率：350W/500W（其它功率可選配）；
4、分辨率：優于0.5um；
5、曝光模式：支持接近式曝光，各種接觸式（真空接觸、軟接觸、硬接觸等）曝光；
6、出射光強范圍：10mW/cm2~55mW/cm2@405nm；
7、支持恒定光強或恒定功率模式；
8、曝光時間：0.1~999.9s；
9、對準精度：雙高清彩色CCD + 雙高清彩色監視器，對準精度可達到0.4微米內；
10、掩膜尺寸：2 x 2英寸到 9 x 9英寸(2 x 2英寸需要掩膜轉換器)；
11、光強均勻性Uniformity：
<±1% over 2”區域；
<±2% over 4”區域；
<±3% over 6”區域；
12、雙面光刻：具備背面紅外對準（IR BSA）和光學背面對準（OBS BSA），雙面對準精度≤2μm；
13、電源：高靈敏度光強可控電源。
可選型號：
NXQ400-6
NXQ400-8
NXQ800-6
NXQ8006 Sapphire
NXQ800-8
三、產品特點：
可選支持單面對準和雙面對準設計；
高清晰彩色雙CCD鏡頭采用***的分裂視場顯微鏡鏡頭（基于無限遠修正的CCD鏡頭設計）；雙頭高清全彩物鏡（單視場或分裂視場可供用戶靈活選擇）；
高清彩色雙顯示屏；
全新氣動軸承導軌設計，高精準，低磨損，無需售后維護的；
具有自動執行楔形誤差補償，并在找平后自動定位功能；
操作簡易，具有支持多操作員同臺使用的友好操作界面；
操控手柄調控模式的獨特設計；
采用LED穿透物鏡照明技術，具有超強對準亮度；
采用基于無限遠修正的顯微鏡鏡頭架構；
抗衍射反射的高效光學光路設計；
帶安全保護功能的溫度和氣流傳感器；
全景準直透鏡光線偏差半角: <1.84度；
設備穩定性，耐用性超高；
| 產品相關關鍵字： 恩科優光刻機 紫外曝光機 掩膜曝光機 掩膜對準曝光系統 全自動光刻機 |
