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EBPG150電子束光刻機(jī)

直接聯(lián)系

深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司

德國

產(chǎn)品規(guī)格型號

參考報(bào)價(jià)：

面議

關(guān)注度：

487

產(chǎn)品介紹

EBPG5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟EBPG5200一樣的通用光刻平臺設(shè)計(jì)，對電子束直寫應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品，包括多片散片以及完整的硅片。

00001. 高束流密度，熱場發(fā)射電子槍可以在20、50和100kV之間切換

00002. 155mm的平臺

00003. *小曝光特征尺寸小于8nm

00004. 高速度曝光，可采用50或100MHz的圖形發(fā)生器

00005. 在所有KVs加速電壓下，可連續(xù)改變的寫場大小，**可以到1mm

00006. GUI人機(jī)交互界面友好，簡潔易用，適用于多用戶環(huán)境

00007. 多項(xiàng)靈活可選擇的配置，可以適用于不同應(yīng)用的需求

可選的系統(tǒng)增強(qiáng)升級

EBPG5150可以選擇不同的升級選項(xiàng)，以滿足用戶不同的技術(shù)和預(yù)算需求。讓全世界的高校等研究類用戶也可以使用這款非常先進(jìn)、高自動化的電子束光刻系統(tǒng)。

EBPG5150 應(yīng)用

· 電子束曝光用于制作GaAs T型器件

· 微盤諧振器

· 開口環(huán)諧振器

EBPG5150 產(chǎn)品詳情

主要應(yīng)用：

· 100KV高加速電壓可用于曝光高深寬比納米結(jié)構(gòu)

· 高速電子束直寫

· 批量生產(chǎn)，如化合物半導(dǎo)體器件

· 防偽標(biāo)識

電子光學(xué)柱技術(shù)：

· EBPG

· 電子束

· 100 kV

產(chǎn)品咨詢

EBPG150電子束光刻機(jī)

深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司

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可選的系統(tǒng)增強(qiáng)升級

EBPG5150 應(yīng)用

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