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小型臺(tái)式無掩模光刻系統(tǒng)
小型臺(tái)式無掩模光刻系統(tǒng)是英國Durham Magneto Optics公司專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開發(fā),為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。
傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩模板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供,但是在研發(fā)環(huán)境中,掩模板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。無掩模光刻技術(shù)通過以軟件設(shè)計(jì)電子掩模板 的方法,克服了這一問題。與通過物理掩模板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同,激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關(guān),在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。
Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm),無掩模直寫系統(tǒng)的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì),全自動(dòng)控制,可靠性高,操作簡便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。
產(chǎn)品特點(diǎn)
Focus Lock自動(dòng)對(duì)焦功能 Focus Lock技術(shù)是利用自動(dòng)對(duì)焦功能對(duì)樣品表面高度進(jìn)行探測,并通過Z向調(diào)整和補(bǔ)償,以保證曝光分辨率。 | 光學(xué)輪廓儀 Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測與套刻。Z向**精度100 nm,方便快捷。 |
標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別 點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕,系統(tǒng)自動(dòng)在顯微鏡圖像中識(shí)別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識(shí)別后,將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置。 | 直寫前預(yù)檢查 軟件可以實(shí)時(shí)顯微觀測基體表面,并顯示預(yù)直寫圖形位置。通過實(shí)時(shí)調(diào)整位置、角度,直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合,保證直寫準(zhǔn)確。 |
簡單的直寫軟件 MicroWriter 由一個(gè)簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡單的布局設(shè)計(jì)、基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。 | Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì)軟件 ? 可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件(DXF, CIF, GDSII, 等) ? 可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式 ? 書寫范圍只由基片尺寸決定 |
產(chǎn)品參數(shù)
Microwriter ML3 | 基本型 | 增強(qiáng)型 | 旗艦型 |
**樣品尺寸 | 155×155×7mm | 155×155×7mm | 230×230×15mm |
**直寫面積 | 149mm x 149mm | 149mm x 149mm | 195mm x 195mm |
曝光光源 | 405 nm LED 1.5W | 405 nm LED 1.5W | 385 nm LED 適用于SU-8 (365+405nm雙光源可選) |
直寫分辨率 | 1μm | 1μm and 5 μm | 0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm |
直寫速度 | 20mm2/min @ 1μm | 20mm2/min @ 1μm 120mm2/min @ 5μm | 25mm2/min @ 0.6μm 50mm2/min @ 1μm 100mm2/min @ 2μm 180mm2/min @ 5μm |
對(duì)準(zhǔn)顯微鏡鏡頭 | x10 | x3 and x10 自動(dòng)切換 | x3, x5, x10, x20 自動(dòng)切換 |
多層套刻精度 | ±1μm | ±1μm | ±0.5μm |
*小柵格精度 | 200nm | 200nm | 100nm |
樣品臺(tái)*小步長 | 100nm | 100nm | 50nm |
光學(xué)輪廓Z分辨率 | 無(可升級(jí)) | 300nm | 100nm |
樣品表面自動(dòng)對(duì)焦 | 是 | 是 | 是 |
灰度直寫(255級(jí)) | 是 | 是 | 是 |
自動(dòng)晶片檢查工具 | 無(可升級(jí)) | 有 | 有 |
溫控樣品腔室 | 無(可升級(jí)) | 無(可升級(jí)) | 有 |
氣動(dòng)減震光學(xué)平臺(tái) | 無(可升級(jí)) | 無(可升級(jí)) | 有 |
應(yīng)用案例
直寫分辨率0.1μm
直寫分辨率0.6μm
微電極制備
光刻膠上的圖形 | Au電極(SEM) | Au電極(SEM) |
設(shè)計(jì)圖 | 光刻膠上的圖形 | 放大圖的顯微結(jié)構(gòu) |
微結(jié)構(gòu)制備
微流通道制備
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)