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小型臺(tái)式無掩模光刻系統(tǒng)

直接聯(lián)系

量子科學(xué)儀器貿(mào)易(北京)有限公司

英國

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)
參考報(bào)價(jià):

面議

關(guān)注度:

1220

產(chǎn)品介紹

小型臺(tái)式無掩模光刻系統(tǒng)

小型臺(tái)式無掩模光刻系統(tǒng)是英國Durham Magneto Optics公司專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開發(fā),為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。

傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩模板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供,但是在研發(fā)環(huán)境中,掩模板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。無掩模光刻技術(shù)通過以軟件設(shè)計(jì)電子掩模板 的方法,克服了這一問題。與通過物理掩模板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同,激光直寫是通過電腦控制一系列激光脈沖的開關(guān),在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

Microwriter ML3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng),具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm),無掩模直寫系統(tǒng)的靈活性,還擁有高直寫速度,高分辨率的特點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì),全自動(dòng)控制,可靠性高,操作簡便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。

產(chǎn)品特點(diǎn)

Focus Lock自動(dòng)對(duì)焦功能

Focus Lock技術(shù)是利用自動(dòng)對(duì)焦功能對(duì)樣品表面高度進(jìn)行探測,并通過Z向調(diào)整和補(bǔ)償,以保證曝光分辨率。

光學(xué)輪廓儀

Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測工具,用于勻膠后沉積層,蝕刻層,MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測與套刻。Z向**精度100 nm,方便快捷。

標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別

點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕,系統(tǒng)自動(dòng)在顯微鏡圖像中識(shí)別光刻標(biāo)記。標(biāo)記物被識(shí)別后,將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置。

直寫前預(yù)檢查

軟件可以實(shí)時(shí)顯微觀測基體表面,并顯示預(yù)直寫圖形位置。通過實(shí)時(shí)調(diào)整位置、角度,直到設(shè)計(jì)圖形按要求與已有結(jié)構(gòu)重合,保證直寫準(zhǔn)確。

簡單的直寫軟件

MicroWriter 由一個(gè)簡單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡單的布局設(shè)計(jì)、基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。

Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì)軟件

? 可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件(DXF, CIF, GDSII, 等)

? 可以直接讀取TIFF, BMP 等圖片格式

? 書寫范圍只由基片尺寸決定

產(chǎn)品參數(shù)

Microwriter ML3

基本型

增強(qiáng)型

旗艦型

**樣品尺寸

155×155×7mm

155×155×7mm

230×230×15mm

**直寫面積

149mm x 149mm

149mm x 149mm

195mm x 195mm

曝光光源

405 nm LED 1.5W

405 nm LED 1.5W

385 nm LED 適用于SU-8

(365+405nm雙光源可選)

直寫分辨率

1μm

1μm and 5 μm

0.6μm, 1μm, 2μm, 5μm

直寫速度

20mm2/min @ 1μm

20mm2/min @ 1μm

120mm2/min @ 5μm

25mm2/min @ 0.6μm

50mm2/min @ 1μm

100mm2/min @ 2μm

180mm2/min @ 5μm

對(duì)準(zhǔn)顯微鏡鏡頭

x10

x3 and x10 自動(dòng)切換

x3, x5, x10, x20 自動(dòng)切換

多層套刻精度

±1μm

±1μm

±0.5μm

*小柵格精度

200nm

200nm

100nm

樣品臺(tái)*小步長

100nm

100nm

50nm

光學(xué)輪廓Z分辨率

無(可升級(jí))

300nm

100nm

樣品表面自動(dòng)對(duì)焦

灰度直寫(255級(jí))

自動(dòng)晶片檢查工具

無(可升級(jí))

溫控樣品腔室

無(可升級(jí))

無(可升級(jí))

氣動(dòng)減震光學(xué)平臺(tái)

無(可升級(jí))

無(可升級(jí))

應(yīng)用案例

直寫分辨率0.1μm

直寫分辨率0.6μm

微電極制備

光刻膠上的圖形

Au電極(SEM)

Au電極(SEM)

設(shè)計(jì)圖

光刻膠上的圖形

放大圖的顯微結(jié)構(gòu)

微結(jié)構(gòu)制備

微流通道制備

產(chǎn)品咨詢

小型臺(tái)式無掩模光刻系統(tǒng)

量子科學(xué)儀器貿(mào)易(北京)有限公司

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