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儀器簡介：

采用**制造工藝，可把平面納米壓印拓展到任意曲面。標(biāo)準(zhǔn)模板分為三類：Quartz Molds， Silicon Molds， Polymer Molds of 2"、3"、4"。適用于Obducat，Suss，HP，EVG等多種型號的納米壓印設(shè)備。

技術(shù)參數(shù)：

Delivery of nanoimprint templates in various materials (Si， SiNx， SiC， quartz，glass).Maximum area of the templates:4 inch with feature size of 100 nm. For smaller area， minimum feature size of 50 nm.

提供各種材料的納米壓印模板（硅，氮化硅，碳化硅，石英玻璃）。模板**尺寸：4英寸，特征尺寸為100nm。對于更小的尺寸，*小的特征尺寸可以達(dá)到50nm。

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Delivery of EBL service for various structures with the feature size down to 30nm.Substrates: any conducting or non-conducting wafers.

提供*低30nm特征尺寸的各種結(jié)構(gòu)的電子束刻蝕服務(wù)。基板：任何導(dǎo)電或者非導(dǎo)電晶片。

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Micro and nanofabrications for all kinds of nanostructures in a Si， III-V， II-VI and polymers.

各種納米結(jié)構(gòu)（硅，III-V族元素，II-VI族元素以及聚合物）的微納米加工。

主要特點(diǎn)：

soft mold for thermal nanoimprint 熱壓印的軟模板

quartz mold for UV nanoimprint 紫外壓印的石英模板

silicon mold for thermal nanoimprint 熱壓印的硅模板