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我們所提供的紫外臭氧清洗系統是一種簡單,經濟,高效的材料表面清洗設備。只需把樣品放置到托盤上,關上艙門,設置時間,按下運行按鈕,就可以在幾分鐘內,快速去除大多數無機基材上的有機污染物,為您提供超潔凈的表面。通過使用高功率紫外線光源產生臭氧,將污染物分解成揮發性化合物。這些揮發性化合物從表面蒸發而不留痕跡。這種方法可產生接近原子級的清潔表面并且不會損壞樣品。
應用工藝:
?改善表面親水性
?表面清洗
?準備薄膜沉積
?表面處理
?紫外固化
?表面滅菌消毒
?去除表面單分子膜
?表面氧化
?清洗AFM / STM探針
?清洗光學元件
可清洗的基材示例:
?石英
?硅
?氧化硅
?氮化硅
?金
?鎳
?鋁
?砷化鎵
?礬土
?玻璃
?不銹鋼
可去除的污染物示例:
?光刻膠
?樹脂
?人體皮膚油脂
?清洗溶劑的殘留物
?塑料/硅片表面油漬
?助焊劑
產品特點:
?成本低;
?120x120mm樣品臺;
?**處理樣品高度為14mm;
?抽屜式樣品臺,簡單方便;
?樣品臺自安全聯鎖,防止對人身傷害;
?LCD屏顯示“已用時間”和“剩余時間”;
?60分鐘計時器;
?高強度紫外線燈源;
?可控溫的樣品臺;
?樣品清洗無需溶劑;
?超凈表面。
產品參數:
紫外燈類型 | 合成石英紫外燈 |
紫外燈主要波長 | 185 nm和254 nm |
UV燈管尺寸 | 100 mm x 100 mm |
UV燈電源 | 4000 V, 30 mA |
UV燈使用壽命 | T80(2000小時); 8 - 10年的標準日常使用 |
適用電壓 | 230 V, 0.6 A , 50 Hz // opt. ( 110 V, 1.2 A, 60 Hz ) |
**運行時間 | 59分59秒 |
安全特點 | 安全聯鎖,高溫報警,高溫斷電 |
托盤尺寸 | 120 mm x 120 mm |
樣品**尺寸 | 100 mm x 100 mm |
總尺寸 | 寬204 mm,高227 mm,長300 mm |
下圖顯示了UV臭氧處理對基材的影響,以改善表面親水性。
水滴在OTS處理的硅基底(300納米二氧化硅表面)上,經過紫外臭氧清洗處理前(左圖)和處理后(右圖)的效果對比。