粉體行業(yè)在線展覽
CM-007
100-150萬元
超邁光電
CM-007
358
●本裝置使用電阻蒸發(fā)、電子束蒸發(fā)和離子源輔助清洗、輔助沉積和原位刻蝕進(jìn)行復(fù)合,用于制備特種薄膜,薄膜具有均勻性、附著力、抗損傷、低顆粒物污染等特點,是半導(dǎo)體制程中關(guān)鍵工序的核心裝備,其技術(shù)長期被美國、日本等國技術(shù)巨頭所壟斷,屬于國內(nèi)卡脖子裝備,也是制約國內(nèi)半導(dǎo)體領(lǐng)域自主可控的關(guān)鍵設(shè)備,該設(shè)備的技術(shù)突破和產(chǎn)業(yè)化對國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展具有積極意義。
CM-008
CM-007
CM-005
CM-006
CM-004
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CM-002
CM-001
CM-020
CM-019
CM-018
CM-017
TH-F120
在線折光儀PRB21
ParticleX TC
觀世
在線濁度計
CELL PAT
FS500全譜直讀光譜儀
OES1000
蜂鳥10X42
Nanocoulter