粉體行業在線展覽
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高真空磁控濺射薄膜沉積系統--PVD500
直接聯系
中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司
遼寧
面議
沈陽科學儀器
高真空磁控濺射薄膜沉積系統--PVD500
536
真空室結構:
方形前開門
真空室尺寸:
φ500x500x500mm
產品概述：
本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用行業**的軟件控制系統。
設備特點：
本設備是一個鍍膜平臺，可把磁控靶拆下換電子槍成為電子束鍍膜系統、或換蒸發源作為熱蒸發系統、或換上離子槍作為離子束鍍膜系統等。
設備用途：
用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
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