粉體行業在線展覽
PIS純離子鍍膜機
面議
純源鍍膜
PIS純離子鍍膜機
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主要特點
1、傳動裝置為水冷式:設計新穎、結構緊湊、系列間通用、互換性強;水冷式機座,散熱效果佳;滾動軸承及傳動齒輪可加潤滑油運行,使用壽命增長3-5倍;
2、旋轉裝置為行星旋轉機構、據鍍膜工藝不同,設計為:公轉式、公/自轉式;
3、采用氣動門鉸,自動鎖門,減少操作程序,增強真空門整體的密閉性及減少對橡膠密封圈的破壞性;
4、真空容器設計為新型結構,用戶可據自己的需求,升級為多功能鍍膜設備;
5、多弧離子部份采用先進鍍膜工藝技術,即可鍍制裝飾膜,也能鍍制功能膜,數道工藝,一次完成,極為先進科學;
6、智能控制:PLC智能控制+HMI全彩人機觸控界面,實現全自動控制;
7、報警及保護:異常情況進行報警,并執行相應保護措施。
技術優勢
1、膜層致密、粘附性好;膜層均勻性可調;高穩定性;高功率;
2、均勻性好;優化磁場設計,維護方便;有效水冷設計,靶材可以連續24小時工作;
3、腔體接口通用尺寸,互換性強,優化升級方便;
4、實時記錄歷史數據和分析數據曲線,對品質管理管控和工藝開發有明顯幫助。強大的軟件功能,友好的人機界面,實時記錄工藝數據,利于質量管控、疑難分析、開發新工藝等;
5、模塊化工藝配方,靈活設定子配方和總配方,子配方添加/刪減方便,一鍵式操作即可完成多層工藝配方。
TEM 熱、電、氣、液、冷凍樣品桿
合金分析儀
SHM1000
其他
NAI-ZLY-4/6C
CX-100
EMC-1
HMYX-2000
GPZT-JH10/4W
NJ-80型
X-300 X-FLUXER? 三位全自動熔片儀
NVT-HG型 單晶生長爐