粉體行業(yè)在線展覽
粉體行業(yè)在線展覽
ASML 二手ArF浸沒式光刻機(jī)XT:1900Gi
直接聯(lián)系
青島佳鼎半導(dǎo)體
山東
面議
佳鼎半導(dǎo)體
ASML 二手ArF浸沒式光刻機(jī)XT:1900Gi
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TWINSCAN XT:1900Gi Step-and-Scan 系統(tǒng)是一種高生產(chǎn)率的雙級浸沒式光刻工具，專為 45 納米及以下分辨率的 300 毫米晶圓批量生產(chǎn)而設(shè)計。
XT：1900Gi采用蔡司星石1900i浸沒鏡頭。這是現(xiàn)有的大型ArF鏡頭，在1.35NA時，它推動了水基ArF浸入式平版印刷達(dá)到極限。結(jié)合ASML的Ultra-k1產(chǎn)品組合，它提供了行業(yè)*低的可用k1值，它可以實現(xiàn)40nm及以下的半間距分辨率。
XT：1900Gi采用新的測量和曝光周期，它為浸入式光刻設(shè)定了一個新的基準(zhǔn)，每小時生產(chǎn)131個晶片。
槽式清洗機(jī) Ultron B200
單片式濕法清洗設(shè)備 Ultron S200/S300
全自動晶圓清洗機(jī) AWS150
SCREEN二手清洗設(shè)備WS-820L
SUSS半自動濕法處理設(shè)備AD12
球差場發(fā)射透射電子顯微鏡 HF5000
超高分辨場發(fā)射掃描電子顯微鏡Regulus系列
AMAT 半導(dǎo)體檢測設(shè)備 SEMVision G2
KLA無圖案晶圓缺陷檢測系統(tǒng)Surfscan SP2
TOPCON拓普康芯片外觀檢測設(shè)備Vi4202
PVA TEPLA / TECHNICS GIGA 690二手現(xiàn)貨刻蝕機(jī)
PVA TEPLA / TECHNICS GIGABATCH 360M刻蝕機(jī)
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
自動劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)
