粉體行業在線展覽
TFC-6650C微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)設備
面議
碳方程
TFC-6650C微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)設備
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特別適合應用于單晶和多晶金剛石膜、類金剛膜的化學汽相沉積;材料表面處理和改性;低溫氧化物的生長等領域。
金剛石刀具
鉆石晶體
金剛石光學片
金剛石熱沉片
TFC-6650C微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)設備
TFC-6500B微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)設備
TFC-10800C微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)設備
TFC-10800D微波等離子體化學氣相沉積(MPCVD)設備