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超高真空多功能薄膜制備系統(tǒng)(磁控濺射、電子束蒸發(fā))

直接聯(lián)系

科睿設(shè)備有限公司

美國(guó)

產(chǎn)品規(guī)格型號(hào)
參考報(bào)價(jià):

面議

關(guān)注度:

531

產(chǎn)品介紹

儀器簡(jiǎn)介:

此系統(tǒng)可以配置多種沉積方式(預(yù)留各種功能接口),高度靈活,非常適合多種沉積模式的科研.

高真空條件沉積模式(使用機(jī)械泵+分子泵,或冷凝泵)。多種組合沉積模式,同一腔體實(shí)現(xiàn)多種功能沉積方式,沉積源模式有:

磁控濺射源Sputter source

電子束蒸發(fā)E-beam Sources

K-cell蒸發(fā)

熱蒸發(fā)Thermal sources

氧化物源Oxide sources

此系統(tǒng)高度靈活,軟件操作方便,專業(yè)為研究機(jī)構(gòu)沉積超純度薄膜,真正的高真空沉積系統(tǒng)。

The System is designed to be a highly flexible system for thin-film research in ultra pure conditions. The system can be configured to be true-UHV and allows for multiple deposition component options.

感謝中科院上海應(yīng)用物理研究所上海光源同步實(shí)驗(yàn)部用此設(shè)備,為廣大專業(yè)研究人員提供服務(wù)!!

上海光源同步實(shí)驗(yàn)部配置的是磁控濺射(直流和射頻均有)和電子束蒸發(fā)的組合功能,膜厚均勻性(鍍膜500納米左右厚度)均達(dá)到<3%,這種組合系統(tǒng)極大地?cái)U(kuò)展了沉積功能,性能價(jià)格比超高,是研究人員的有力工具!!

使用此系統(tǒng)的主要用戶還有:中科院微系統(tǒng)所,北京大學(xué),中國(guó)科技大學(xué),中北大學(xué)等

技術(shù)參數(shù):

頂部法蘭: 12”

Radial ports:4 x NW100CF

沉積接口: 5 x NW100CF, 4 x NW35CF

分子泵: 300ls , 500 ls options

樣品操作: Quick-open top-lid.

極限真空: <5x 10e-10 (24小時(shí)烘烤)

機(jī)柜: Low footprint frame on transport casters

樣品臺(tái)操控: Rotation, heating, bias

樣品操作: Load-Lock (可選)

Sample size樣品尺寸: 1”, 2”, 3”, 4” ,大到8”,12”等

膜厚監(jiān)控: QCM, Ellipsometry

烘烤: Internal or jacket

全自動(dòng)軟件操作,方便簡(jiǎn)單:Automation Touch screen pump down and process automation

系統(tǒng)尺寸:

Width: 1.5m

Height: 1.6m

Length (standard): 1.3m

Length: (with Loadlock): 2.0m

主要特點(diǎn):

Top-loading chamber (500mm直徑)

超高真空匹配接口

多種沉積源模式接口

Analysis, load-lock and viewing ports

多種樣品夾具, 樣品臺(tái)可旋轉(zhuǎn),加熱/冷卻,DC/RF偏壓

多種沉積源模式:包括 high-rate e-beam, low-rate (high accuracy) e-beam, DC and RF sputtering, thermal, K-cell,oxide sources.

產(chǎn)品咨詢

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