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美國SVT脈沖激光沉積設(shè)備/PLD

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產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報(bào)價(jià):

面議

關(guān)注度:

636

產(chǎn)品介紹

SVTSMARTScientific Materials and Applied Research Tool)脈沖激光沉積系統(tǒng)具有****的優(yōu)越性。它可以把激光燒蝕技術(shù)和我們所擁有的其他沉積技術(shù)(如RF源)集成于一臺設(shè)備上??梢陨L各種可能的材料。

配有6個(gè)旋轉(zhuǎn)靶臺,實(shí)現(xiàn)多層薄膜結(jié)構(gòu)生長。

可與準(zhǔn)分子激光和Yag激光相連。

在線監(jiān)控儀器做為可選件,為客戶提供高質(zhì)量的工藝信息反饋。

裝載室不但可以裝取樣品,還可以與其他生長設(shè)備或分析設(shè)備相連。

應(yīng)用

多元素復(fù)合氧化物

高溫超導(dǎo)材料

磁性材料、金屬材料

低蒸汽壓材料

MEMS

基本系統(tǒng)

腔室及真空泵

12’’ 快速門,250l/s 分子泵,全量程規(guī)

沉積源

靶臺,6X1’’(25mm) 靶,可以水平旋轉(zhuǎn),

Z方向移動(dòng)

樣品臺

1’’(25mm)大小,可加熱至800oC1000oC可選),可水平旋轉(zhuǎn),可Z方向移動(dòng)

在線工藝監(jiān)控

石英晶振沉積速率監(jiān)控儀

自動(dòng)化

自動(dòng)化裝置:

控制樣品溫度和旋轉(zhuǎn)

靶臺的位置控制

靶臺旋轉(zhuǎn)

氣體控制

速率及厚度計(jì)算(利用QCM輸出)

激光束掃描(可選)

激光束屏蔽控制

自動(dòng)泵抽和充氣

差分泵抽結(jié)構(gòu)

RHEED分析(可選)

裝載室壓強(qiáng)監(jiān)控(可選)

主要特點(diǎn)

RF射頻等離子源(氧,氮)

升級高真空

增加進(jìn)樣室

升級為Laser-MBE (L-MBE)系統(tǒng)

自動(dòng)軟件控制

提供更潔凈的薄膜生長環(huán)境,**的溫度控制解決方案.

產(chǎn)品咨詢

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