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產(chǎn)品簡介:GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據(jù)二極(DC)直流濺射原理設計而成的*簡單、可靠、經(jīng)濟的鍍膜設備,適用于實驗室各種復合膜樣品的制備,以及非導體材料實驗電極的制作。
GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀操作視頻
產(chǎn)品型號 | GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀 | ||
安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設備需選配自循環(huán)冷卻水機(加注純凈水或者去離子水) 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:設備腔室內需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(帶減壓閥) 4、工作臺:尺寸600mm×600mm×700mm,承重50kg以上 5、通風裝置:不需要 | ||
主要特點 | 1、設有真空表、濺射電流表,可實時監(jiān)控工作狀態(tài)。 2、通過調節(jié)濺射電流控制器、微型真空氣閥,控制真空室壓強、電離電流及選擇所需要的電離氣體,以獲得**鍍膜效果。 3、鐘罩邊緣橡膠密封圈采用特殊設計,可保證長期使用不出現(xiàn)玻璃鐘罩崩邊現(xiàn)象。 4、陶瓷密封高壓電極接頭比通常采用的橡膠密封更經(jīng)久耐用。 5、根據(jù)電場中氣體電離特性,采用大容量濺射真空室和相應面積濺射靶,使濺射鍍層更均勻純凈。 6、濺射頭采用Peltier制冷技術,可得到高性能、精細顆粒的涂層。 7、可用水冷濺射頭、水冷載物臺。 | ||
技術參數(shù) | 1、靶:?50mm 2、真空室:?160mm×120mm 3、**真空度:≤4×10-2mbar 4、**電流:50mA(100mA) 5、可設定*長時間:9999s 6、微型真空氣閥:連接?3mm軟管 7、**電壓:1600V DC 8、機械泵:2L/s | ||
產(chǎn)品規(guī)格 | 尺寸:360mm×300mm×380mm | ||
標準配件 | 1 | 金靶材 | 1個 |
2 | 進氣針閥 | 1個 | |
3 | 保險絲 | 2個 | |
可選配件 | 金、銦、銀、鉑等各種靶材 |