粉體行業在線展覽
面議
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應用
清洗電子元件、光學器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。
清洗光學鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。
移除光學元件、半導體元件等表面的光阻物質。
清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。
清洗半導體元件、印刷線路板。
清洗生物芯片、微流控芯片。
清洗沉積凝膠的基片。
高分子材料表面修飾。
牙科材料、人造移植物、醫療器械的消毒和殺菌。
改善粘接光學元件、光纖、生物醫學材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。
功能
對金屬、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有機污染物 (如石蠟、油污、脫膜劑、蛋白等)進行超清洗。
改變某些材料表面的性能。
使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化,加強這些材料的粘附性、相容性和浸潤性。
清除金屬材料表面的氧化層。
對被清洗物進行消毒、殺菌。
優點
清除表面有機污染物。
清洗快速、操作簡便、使用和維護成本極低。
非破壞性、對被清洗物表面光潔度無損害。
綠色環保、不使用化學溶劑、無二次污染。
常溫條件下清洗,被清洗物的溫度變化微小。
能清洗各種幾何形狀、粗糙程度各異的表面。
產品名稱:Harrick PDC-002
產品編號:
產品規格:
型號規格:PDC—002
整機規格:9×18×11(長×寬×高)英寸 (228×457×279)mm反應艙規格:Φ6×L6英寸耐熱玻璃 (Φ152×L152)mm
反應艙有效容積:2.8L
輸入電源:220 V/50Hz
整機輸入功率:200 W
射頻輸出檔:低檔716V DC、10mA DC、7.16W/中檔720V DC、15mA DC、10.15W/高檔740V DC、40mA DC、29.6W
常用工作氣體:空氣、氬氣、氮氣或混合氣體等
特征:緊湊的臺式設備,沒有RF幅射,符合CE安全標準。反應艙蓋具備鉸鏈、磁力鎖及可視窗口。
選配件:石英等離子清洗艙
提供各自計量兩種不同氣體進氣和監測壓力的氣體計量混合器Plasma FloTM
需要:兼容的真空泵,*小速率為1.4 m3/hr,**極限為200 MTorr。
包括:1/8英寸NPT針閥束引入氣體和控制壓力
FORJ
德國MicroTec—CUT4055
PD-10電鏡粉末制樣儀
全自動切片機
YPZ-GZ110L
SPEED wave
ZYP-X60T
XHLQM-30
Spex 3636 X-Press? 實驗室用自動壓片機