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高溫/高壓池可以使用透射、鏡面反射和雙重模式來分析固體樣品，以及靜態或流動傳輸模式的過程氣體。樣品溫度可高達800℃，樣品池可在真空到1000psi壓力下使用。

樣品池窗片和主體可獨立加熱和控制到高達200℃的溫度，可阻止內部的材料凝結后附著到ZnSe窗片上。水冷上下部分阻止對光譜儀樣品倉內的樣品過度加熱，維持表面在一個安全的溫度。可通過更換樣品池主體上的光學加壓窗片組件并安裝到基板上來進行透射(**樣品尺寸13mm)和鏡面反射模式切換。

簡單的重新定位樣品支架/加熱器組件，將加熱的樣品放到光束下的器皿中，即可獲得分解模式。樣品在不同溫度得到的氣體可以被分析出來。樣品池可為氣體分析或清洗提供穩定的氣流。樣品池體積為80ml。

樣品池溫度使用一個可手動或通過計算機編程的專用的控制器來調節。設計結合了一系列重要安全特征。尤其是樣品池的所有的電源供應都符合加拿大標準協會(CSA)規定(30V或更低)，溫控器在熱電偶輸入上安裝有開路探測可阻止過熱。

樣品池本身安裝了一個安全隔板可防止偶然的過壓，如有需要，其可以安裝到通風櫥中或其他地方。標準的樣品池是耐用的316不銹鋼制成的，如有需要可以拆開進行徹底的清潔。

技術參數

測試模式：原位高溫高壓混氣測試

測試種類：三重模式 透射+分解燃燒混氣 （流動或靜態）+反射模式

分體樣品池：一個Specac Key 壓片透射裝載池，一個水平分解盤80ml，反射模式組件

溫度范圍：室溫到800度

池體容積：80ml

窗片控溫：獨立控溫

窗片選擇：可從UV紫外到紅外各種窗片可選

窗片大小：29.8直徑x11mm厚度，金剛石18x1.0mm，藍寶石29.8x3mm

氣體口：4個

承壓范圍：1000psi

材料：加熱池主體合金特種不銹鋼（不吸附化學物質）

制冷模式：水冷系統

加熱系統：west 6000系列 雙屏控制系統

溫控器：升溫速率**999/min；溫控4位數字顯示；升溫速率可調節

溫度步進：1度

溫度控制穩定性：小于1度；加熱到800度小于40分鐘

**功率：750W

接口：可選USB，RS232，RS485

密封系統：雙層密封系統

安全裝置：安全隔板設置防止過壓，窗片和樣品池獨立控溫；真空泵系統

抽吸速度：75 l/min

極限真空壓力；＜2 mbar

**進氣口壓力；1 bar

**出氣口壓力：1 bar

進/出氣口連接管徑：8mm

軸承：免維護式軸承，隔膜泵

噪音：< 44 dB (A)

電源：220V 50HZ/60HZ

防護等級：IP 54

氣壓載閥：有

重量：16.5 kg

與紅外設備連接管道：不銹鋼波紋管

連接接口：VCO標準KF16接口帶適配器，適合1/4”進氣，3/8’出氣接口（適配Specac反應池）

訂購信息

GS05850高溫/高壓池 不含反射附件

包括:帶ZnSe窗片的光學器件單元和儀器基板、透射/雙重樣品支架，可

編程高穩定性溫控器。

請指定光譜儀制造廠家和型號。

GS05855高級高溫/高壓樣品池系統 含反射附件

包括:帶ZnSe窗片的光學器件單元和儀器基板、透射/雙重樣品支架，

反射模式楔形加壓窗片組件和反射模式基板，可編程高穩定性溫控器。

請指定光譜儀制造廠家和型號。

GS05860反射模式套裝

包括:可將GS05850 HTHP樣品池轉化成高級的HTHP樣品池(GS05855)

的部件套裝

GS05865密封套件備件

GS05867 ZnSe樣品池窗片備件 (經過測試和認證的)

GS05868分解盤--備用件(2個)

GS05869"安全隔板"備件

可選項

GS05870

HTHP樣品池ESK

GS28000 RS232連接包

GS28001 USB連接包

GS28002 RS485連接包