粉體行業在線展覽
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ETD-900型離子濺射儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的,*簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。
適用于電鏡實驗室的掃描電子顯微鏡(SEM)樣品制備,非導體材料實驗電極制作。
特點:
1. 配置有樣品濺射室真空表和濺射電流表,用以指示、監控儀器狀態;
2. 濺射電流調整控制器、微型真空氣閥。在工作時結合內部自動控制電路很容易控制真空室壓強、電離電流及任意選擇所需要的電離氣體,獲得**鍍膜效果;
3. 特殊設計的鐘罩邊緣橡膠密封圈,可保證長期使用不會出現影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊”現象;
4. 根據電場中氣體電離特性,采用大容量樣品濺射真空室和相應面積濺射靶,使濺射鍍層更均勻純凈。
型號 | ETD-900 |
主機規格 | L360mm*W300mm*H380mm |
靶(上部電極) | 金:直徑:50mm,厚度:0.1mm |
真空樣品室 | 直徑:160mm,高:120mm |
濺射面積 | Ф50mm |
真空指示表 | **真空度:≤ 4X10-2 mbar |
離子電流表 | **電流:50mA(100mA) |
定時器 | *長時間:3600S |
微型真空氣閥 | 可連接φ3mm軟管 |
可通入氣體 | 多種 |
**電壓 | -1600 DCV |
機械泵 | 2L/S |
FORJ
德國MicroTec—CUT4055
PD-10電鏡粉末制樣儀
全自動切片機
YPZ-GZ110L
SPEED wave
ZYP-X60T
XHLQM-30
Spex 3636 X-Press? 實驗室用自動壓片機