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美國Thermal Technology實驗室真空高溫爐

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量子科學儀器貿易(北京)有限公司

美國

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561

產品介紹

實驗室真空高溫爐

設備簡介

美國Thermal Technology高溫爐適用于各種實驗室應用及小規模生產。操作簡單,性能穩定。**可定制溫度達3000℃。

設備特點

* 豐富加熱原件可供選擇

* **溫度可達3000°C

* 可實現超高真空

* 可實現Ar/N2/O2/H2等多種氣氛環境

應用領域

美國Thermal Technology高溫爐可用于粉末冶金、金屬化合物、陶瓷、半導體、物理、化學、材料、光學等諸多領域的樣品合成及熱處理工藝。

設備型號

石墨高溫爐

Model 1000 石墨高溫爐

**溫度2900℃

頂部或底部進料

垂直或水平爐體

惰性氣體

機械泵真空系統

Model HTG 石墨高溫爐

**溫度2500℃

底部進料

惰性氣體

機械泵真空系統

高真空選件

Graphite Hot Zone

石墨高溫爐 GRAPHITE HOT ZONE

型號

溫度(°C)

爐膛尺寸(inch)

爐膛尺寸(mm)

1000-2560-FP20

2800

Ф 2 x 6

Ф 50 x 150

1000-3560-FP20

2650

Ф 3 x 6

Ф 75 x 150

1000-4560-FP30

2500

Ф 4 x 6

Ф 100 x 150

1000-45120-FP30

2000

Ф 4 x 12

Ф 100 x 300

1000-6580-FP40

2300

Ф 6 x 8

Ф 150 x 200

HTG-9020-FP23

2300

Ф 8 x 16

Ф 200 x 400

金屬高溫爐

Model 1100金屬高溫爐

**溫度2900℃

頂部或底部進料

惰性氣體

高真空選件

可燃氣體選件

Model 1100金屬高溫爐

**溫度2000℃

機械泵真空系統

高真空選件

可燃氣體選件

Metal Hot Zone

金屬高溫爐 Metal HOT ZONE

型號

溫度(°C)

爐膛尺寸(inch)

爐膛尺寸(mm)

1100-2560

2800

Ф 2 x 4

Ф 50 x 10

1100-3580

2700

Ф 3 x 6

Ф 75 x 150

1100-4080

2500

Ф 3.5 x 6

Ф 88 x 150

1100-40100

2200

Ф 3.5 x 8

Ф 88 x 200

1300-70160

2000

Ф 6 x 12

Ф 150 x 200

發表文章

1. Spectrum regulation of YAG:Ce transparent ceramics with Pr, Cr doping for white light emitting diodes application.Journal of the European Ceramic Society ,Volume 37, Issue 10, August 2017, Pages 3403-3409.

2. Thermal and structural stability of single- and multi-walled carbon nanotubes up to 1800 ℃ in Argon studied by Raman spectroscopy and transmission electron microscopy, Materials Research Bulletin 48 (2013) 41–47

用戶單位

江蘇師范大學

中科院硅酸鹽研究所

北京交通大學

武漢大學

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美國Thermal Technology實驗室真空高溫爐

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