粉體行業在線展覽
面議
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EPMA-8050G 場發射電子探針
從SEM觀察條件到1μA量級,在各種束流條件下都擁有******空間分辨率的場發射電子光學系統。結合島津傳統的高性能X射線譜儀,將分析性能發揮至極。
范圍
· 硬度標尺:4Be~92U
· 發射源:搭載高亮度肖特基發射體
· 二次電子圖像分辨率:3nm(加速電壓30kV)
· X射線取出角角度:52.5°,大限度減少X射線被吸收
· 分光晶體:全聚焦型
· X射線譜儀:高靈敏度、高分辨率型
1?高亮度肖特基發射體
場發射電子槍采用的肖特基發射體比一般傳統SEM使用的發射體針尖直徑更大,輸出更高。即可以保持其高亮度,還可提供高靈敏度分析不可缺少的穩定大電流。
2? EPMA專用電子光學系統
電子光學系統,聚光透鏡盡可能的接近電子槍一側,交叉點不是靠聚光透鏡形成,而是由安裝在與物鏡光闌相同位置上,具有獨立構成與控制方式的可變光闌透鏡來形成交叉點的(日本**:第4595778號)。簡單的透鏡結構,既能獲得大束流,同時全部電流條件下設定*合適的打開角度,將電子束壓縮到*細。當然是不需要更換物鏡光闌的。
3?超高真空排氣系統
電子槍室、中間室、分析腔體之間分別安裝有篩孔(orifice)間隔方式的2級差動排氣系統。中間室與分析腔體間的氣流孔做到*小,以控制流入中間室的氣體,使電子槍室始終保持著超高真空,確保發射體穩定工作。
4?高靈敏度X射線譜儀
*多可同時搭載5通道兼顧高靈敏度與高分辨率的4英寸X射線譜儀。52.5°的X射線取出角在提高了X射線信號的空間分辨率的同時,又可減小樣品對X射線的吸收,實現高靈敏度的分析。
Revontium
N80
ScopeX PILOT
VANTA
逸出功能譜儀
ARL X'TRA Companion X射線衍射儀
EDX6000C
WEPER XRF2800
Niton XL2 980Plus
BA-100 G系列
NAOMi-CT 3D-M