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EDAX Orbis 微束X射線熒光能譜儀(Micro XRF)
Orbis可以對各種類型、尺寸的樣品進行先進的無損元素分析,不需樣品制備,不需涂層。它可以對多元素進行快速同步的X射線檢測,含量靈敏度從百萬分之幾到100%。用戶可以對小樣品進行元素分析,如顆粒,碎片和夾雜物,也可以對大樣品進行自動多點和成像分析。
Orbis是一款臺式儀器,可以在空氣或低真空條件下,測量從Na到BK的元素。因為X射線具有穿透力和較大的光斑,Orbis比掃描電子顯微鏡更適合分析較大特點的樣品。Orbis Vision 軟件強大易用,可提供精確的元素分析。
創新的X射線光學/視頻器件幾何設計
Orbis安裝了垂直于樣品的先進的X射線光學器件和高質量的視頻像機,適合更大范圍的樣品形狀。這種創新的設計提供了真正的“你所看到的就是你所分析的”的能力。由于X射線束的阻擋而導致的錯誤測量,可以很容易地被檢測到。如果相機的視野受到阻擋,X射線也會受到阻擋。當測量有地形的樣品時,可以消除X射線束的陰影。此外,在儀器設計的工作距離外,定性分析更容易。
廣泛的應用
Orbis適合各種應用,包括刑事取證、工業質量控制和無損檢測,還有材料、電子和地質樣品分析。
Orbis 型號
Orbis有兩個型號:Orbis SDD 和 Orbis PC SDD。兩個型號都使用Orbis Vision 軟件,都有多個選項,覆蓋廣泛的需要高精度非破壞性元素分析的應用。
Orbis SDD X射線熒光能譜儀
Orbis SDD X射線熒光能譜儀非常適合需要分析大顆?;虼筇卣鞯膽茫缧淌氯∽C和工業質量控制。該儀器配備行業**的電制冷探測器(SDD)和10倍/100倍彩色攝像機,配備了300μM單毛細管光學器件,入射束過濾系統,精密電動XYZ樣品臺和DPP分析器。
Orbis的設計消除了樣品地形阻礙X射線束帶來的不正確樣品分析。
標準配置:
● 銠管(50kV,50W)
● 300μM單毛細管光學器件
● 自動入射束濾光系統(打開位置,6個過濾器,快門)
● 雙CCD相機:10×,彩色;100x,彩色
● 先進的30mm2電制冷探測器(SDD)
● 精密電動XYZ樣品臺
● 樣品室:真空或空氣
● 電子數字信號分析儀
● 操作軟件:自動分析和定量程序,包括:
1. 有標樣或無標樣基本參數分析
2. 使用基本參數分析在輕元素矩陣中進行痕量元素分析
3. 使用標樣校準進行半經驗分析
選項:
● 樣品室視窗(124mm × 124mm可視范圍)
● 先進的50mm2硅漂移探測器(SDD)
● 鉬管(50kV,50W)
● 100μM單毛細管光學器件(替代300μM單毛細管光學器件)
● 與單毛細管光學器件連接的自動準直儀(1 mm和2 mm),通過軟件控制選擇
● 軟件:譜面分布,圖像處理,線掃描,涂層分析,譜匹配,合金識別和離線數據處理軟件
Orbis PC SDD X射線熒光能譜儀
Orbis PC SDD X射線熒光能譜儀是Orbis SDD的升級版,非常適合分析小樣本或快速測量。該儀器配備先進的電制冷探測器(SDD),帶3倍數碼變焦的增強彩色攝像機,和一個30微米的多毛細管光學器件。Orbis PC SDD的樣品定位器采用升級的XYZ樣平臺,具有更高的定位精度。
標準配置:
● 銠管(50kV,50W)
● 30μM超高強度多毛細管光學器件(FWHM @ MoKα)
● 自動入射束濾光系統(打開位置,6個過濾器,快門)
● 雙CCD相機:10×,彩色;75×,彩色,帶3×數字變焦
● 先進的30mm2硅漂移探測器(SDD),無需液氮致冷
● 高精密電腦控制XYZ樣品臺
● 樣品室:真空或空氣
● 電子數字信號分析儀
● 操作軟件:自動分析和定量程序,包括:
1. 有標樣或無標樣基本參數分析
2. 使用基本參數分析在輕元素矩陣中進行痕量元素分析
3. 使用標樣校準進行半經驗分析
選項:
● 樣品室視窗(124mm × 124mm可視范圍)
● 先進的50 mm2硅漂移探測器(SDD)
● 鉬管(50kV,50W)
● 與單毛細管光學器件連接的自動準直儀(1 mm和2 mm),通過軟件控制選擇
● 軟件:譜面分布,圖像處理,線掃描,涂層分析,譜匹配,合金識別和離線數據處理軟件
骨化石Ca-P-Si元素面分布圖,使用紅、綠和藍色混合器創建覆蓋。
Revontium
N80
ScopeX PILOT
VANTA
逸出功能譜儀
ARL X'TRA Companion X射線衍射儀
EDX6000C
WEPER XRF2800
Niton XL2 980Plus
BA-100 G系列
NAOMi-CT 3D-M