1000nm,連續(xù)寬譜覆蓋,高峰值功率>10kW,單模光纖輸出,具有高空間相干性。超連續(xù)譜光源(supe">
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面議
253
Electro IR中紅外皮秒超連續(xù)譜光源
1、Electro IR
產(chǎn)品特性:
900到2800 nm寬光譜
空間單模
脈沖寬度從40ps到1ns
低時(shí)間抖動(dòng)(<20 ns)
外部觸發(fā)
近紅外波段平坦光譜
選項(xiàng):*小波長(zhǎng)到700 nm
應(yīng)用:
光譜
光學(xué)元件測(cè)試
高分辨率成像(OCT)
度量學(xué)
ELECTRO 100 IR | ELECTRO 250 IR | ELECTRO 2000 IR | |
---|---|---|---|
光譜帶寬(*小) | > 900nm | > 900nm | > 900nm |
光譜帶寬(**) | <3000nm | <3000nm | <2800 nm |
總平均功率 | > 500mW | > 1300mW | <400 mW |
重復(fù)率 | 100 kHz | 250 kHz | 2 MHz |
時(shí)間抖動(dòng) | <20 ns | <20 ns | <20 ns |
空間模式 | 單模 | 單模 | 單模 |
脈寬 | <1 ns | <1 ns | <100 ps |
Electro IR中紅外皮秒超連續(xù)譜光源
2、Electro MIR
產(chǎn)品特性:
中紅外超連續(xù)譜激光器
從700到4000納米的寬譜
空間單模
大功率
高重復(fù)率
使用壽命長(zhǎng)
免維護(hù)
應(yīng)用:
光譜
化學(xué)指紋圖譜
度量學(xué)
高分辨率成像
ELECTRO MIR | ELECTRO MIR 4.1 | ELECTRO MIR 4.8 |
---|---|---|
頻譜帶寬(min) | > 800nm | > 800nm |
頻譜帶寬(max) | <4100 nm | <4800 nm |
總平均功率 | > 800 mW | > 500 mW |
脈沖寬度 | > 100 ps | > 100 ps |
重復(fù)率 | 250 kHz | 250 kHz |
時(shí)間抖動(dòng) | <10 ns | <10 ns |
空間輪廓 | 單模 | 單模 |
Electro MIR中紅外皮秒超連續(xù)譜光源
TH-F120
在線折光儀PRB21
ParticleX TC
觀世
在線濁度計(jì)
CELL PAT
FS500全譜直讀光譜儀
OES1000
蜂鳥(niǎo)10X42
Nanocoulter