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應(yīng)用特征： 本產(chǎn)品適用于晶圓襯底及光電晶體基材的 研磨拋光后制程 。主要清洗客戶產(chǎn)品表面 磨拋后的氧化鈰等金屬粉體和氧化物，有 效去除CMP制程在晶體表面殘留的金屬粉 化合物、油污、粉塵及研磨液，并且易于 漂洗。還具有抗靜電的能力，不易吸附空 氣中的灰塵雜質(zhì)。滿足有金屬粉檢測要求 的客戶標(biāo)準(zhǔn)。屬于集特斯聯(lián)合研發(fā)的配方， JTS-SY03對大多數(shù)晶體材料無腐蝕，對人體 相對友好，加溫?zé)o刺激性氣味更不影響使 用環(huán)境