粉體行業在線展覽
EVG 610光刻機
面議
亞科電子
EVG 610光刻機
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產品簡介:
EVG 610是一款入門級光刻機,支持接近式、軟接觸、硬接觸、真空接觸4種曝光方式,可選配背面對準模塊。也可用于鍵合對準及納米壓印光刻(NIL),是科研開發用戶的理想選擇。
主要特點及參數:
·**支持8英寸(200mm)晶圓
·頂部及底部對準:
頂部對準精度≤±0.5μm
底部對準精度≤±2μm
紅外對準精度≤±2μm(取決于襯底材料)
鍵合對準精度≤±2μm
納米壓印對準精度≤±2μm
·支持汞燈或UV-LED光源
·自動楔形補償程序
·可選配功能:
鍵合對準
紅外對準
納米壓印光刻(NIL)
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略