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微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— B型
面議
華宇東升
微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— B型
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性能特點(diǎn):
?采用特殊材質(zhì)反應(yīng)腔,能耐高溫 ?高品質(zhì)單晶金剛石、多晶金剛石的批量生長(zhǎng) ?使用高精度氣體流量計(jì),高穩(wěn)定性 ?采用純凈的石英窗 |
主要技術(shù)參數(shù):
微波功率 | 0.6kW - 6kW 連續(xù)可調(diào) 2.45 GHz |
反應(yīng)腔 | 圓柱形反應(yīng)腔 |
真空漏率 | ≤5×10-10Pa·m3/s |
氣體質(zhì)量流量控制 | 標(biāo)配5路,可定制 |
工作氣壓 | 1kPa - 30kPa |
基板臺(tái)類型 | 水冷式基板臺(tái) |
標(biāo)準(zhǔn)襯底托 | **支持60mm直徑圓臺(tái)面積穩(wěn)定沉積 |
樣品臺(tái) | 多層升降 |
操作系統(tǒng) | PLC控制系統(tǒng) |
樣品臺(tái)升降功能 | 有,可選 |
樣平臺(tái)旋轉(zhuǎn)功能 | 有 |
旋轉(zhuǎn)模式 | 連續(xù)旋轉(zhuǎn)、間歇旋轉(zhuǎn) |
旋轉(zhuǎn)角度 | 360° |
旋轉(zhuǎn)速度 | 0-20轉(zhuǎn)/分,可調(diào)節(jié) |
MPCVD設(shè)備培育的CVD晶種
高穩(wěn)定程控微波源
微波傳輸系統(tǒng)
微波等離子體火炬(MPT)
微波等離子體源
電子回旋共振等離子體(ECR)系統(tǒng)
微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— C型
微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— B型
微波等離子化學(xué)氣相沉積(MPCVD)系統(tǒng) —— A型
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)