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佳鼎半導體

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ASML二手i-line光刻機XT:400G

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299

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TWINSCAN XT:400G 365 nm步進掃描系統是一種超高生產率的雙級光刻工具,專為350 nm分辨率的300 mm晶圓批量生產而設計。TWINSCAN平臺的雙晶圓級技術使一個晶圓的曝光和下一個晶圓的對準和映射能夠并行進行,從而實際上消除了開銷時間,并允許晶圓的連續圖案化。

此外,高強度5.5千瓦汞燈和快速工作臺通過**限度地減少每個場的曝光掃描時間和場之間的步進時間,確保了**的生產率。液位傳感器與TWINSCAN調平方法相結合,實際上消除了內模和邊緣模之間的差異,并確保整個300 mm晶圓的高成品率。高通量和產量與快速的十字線交換時間和批量流相結合,以提供*低的運營成本。

TWINSCAN XT:400G 365 nm步進掃描系統是一種超高生產率的雙級光刻工具,專為350 nm分辨率的300 mm晶圓批量生產而設計。TWINSCAN平臺的雙晶圓級技術使一個晶圓的曝光和下一個晶圓的對準和映射能夠并行進行,從而實際上消除了開銷時間,并允許晶圓的連續圖案化。

此外,高強度5.5千瓦汞燈和快速工作臺通過**限度地減少每個場的曝光掃描時間和場之間的步進時間,確保了**的生產率。液位傳感器與TWINSCAN調平方法相結合,實際上消除了內模和邊緣模之間的差異,并確保整個300 mm晶圓的高成品率。高通量和產量與快速的十字線交換時間和批量流相結合,以提供*低的運營成本。


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