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反射式膜厚測量儀

直接聯(lián)系

上海瞬渺光電技術(shù)有限公司

日本

產(chǎn)品規(guī)格型號
參考報(bào)價(jià):

面議

關(guān)注度:

651

產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品特點(diǎn):

? 非接觸式、不破壞樣品的光干涉式膜厚計(jì)。

? 高精度、高再現(xiàn)性測量紫外到近紅外波長反射率光譜,分析多層薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)(n:折射率,k消光系數(shù))。

? 寬闊的波長測量范圍。(190nm-1100nm)

? 薄膜到厚膜的膜厚測量范圍。1nm~250μm

? 對應(yīng)顯微鏡下的微距測量口徑。

產(chǎn)品規(guī)格:

標(biāo)準(zhǔn)型

厚膜專用型

膜存測量范圍

1nm~40μm

0.8μm~250μm

波長測量范圍

190~1100nm

750~850nm

感光元件

PDA 512ch(電子制冷)

CCD 512ch(電子制冷)

PDA 512ch(電子制冷)

光源規(guī)格

D2(紫外線)、12(可見光)、D2+12(紫外-可見光)

12(可見光)

電源規(guī)格

AC 100V±10V 750VA(自動(dòng)樣品臺(tái)規(guī)格)

尺寸

4810(H)×770(D)×714(W)mm(自動(dòng)樣品臺(tái)規(guī)格之主體部分)

重量

約96kg(自動(dòng)樣品臺(tái)規(guī)格之主體部分)

應(yīng)用范圍:

FPD

-LCD、TFT、OLED(有機(jī)EL)

半導(dǎo)體、復(fù)合半導(dǎo)體

-矽半導(dǎo)體、半導(dǎo)體鐳射、強(qiáng)誘電、介電常數(shù)材料

資料儲(chǔ)存

-DVD、磁頭薄膜、磁性材料

光學(xué)材料

-濾光片、抗反射膜

平面顯示器

-液晶顯示器、膜膜電晶體、OLED

薄膜

-AR膜

其他

-建筑用材料

測量范圍:

玻璃上的二氧化鈦膜厚、膜質(zhì)分析

產(chǎn)品咨詢

反射式膜厚測量儀

上海瞬渺光電技術(shù)有限公司

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反射式膜厚測量儀 - 651
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