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面議
669
產(chǎn)品特點(diǎn):
? 薄膜到厚膜的測量范圍、UV~NIR光譜分析。
? 高性能的低價(jià)光學(xué)薄膜測量儀。
? 藉由**反射率光譜分析膜厚。
? 完整繼承FE-3000高端機(jī)種90%的強(qiáng)大功能。
? 無復(fù)雜設(shè)定,操作簡單,短時(shí)間內(nèi)即可上手。
? 非線性*小平方法解析光學(xué)常數(shù)(n:折射率、k:消光系數(shù))。
產(chǎn)品規(guī)格:
型號 | FE-300V | FE-300UV | FE-300NIR | |
對應(yīng)膜厚 | 標(biāo)準(zhǔn)型 | 薄膜型 | 厚膜型 | 超厚膜型 |
樣品尺寸 | **8寸晶圓(厚度5mm) | |||
膜厚范圍 | 100nm~40μm | 10nm~20μm | 3μm~30μm | 15μm~1.5mm |
波長范圍 | 450nm~780nm | 300nm~800nm | 900nm~1600nm | 1470nm~1600nm |
膜厚精度 | ±0.2nm以內(nèi) | ±0.2nm以內(nèi) | - | - |
重復(fù)再現(xiàn)性(2σ) | 0.1nm以內(nèi) | 0.1nm以內(nèi) | - | - |
測量時(shí)間 | 0.1s~10s以內(nèi) | |||
測量口徑 | 約Φ3mm | |||
光源 | 鹵素?zé)?/span> | UV用D2燈 | 鹵素?zé)?/span> | 鹵素?zé)?/span> |
通訊界面 | USB | |||
尺寸重量 | 280(W)×570(D)×350(H)mm,約24kg | |||
軟件功能 | ||||
標(biāo)準(zhǔn)功能 | 波峰波谷解析、FFT解析、*適化法解析、*小二乘法解析 | |||
選配功能 | 材料分析軟件、薄膜模型解析、標(biāo)準(zhǔn)片解析 |
應(yīng)用范圍:
? 半導(dǎo)體晶圓膜(光阻、SOI、SiO2等)
? 光學(xué)薄膜(OC膜、AR膜、ITO、IZO膜等)
應(yīng)用范例:
? PET基板上的DLC膜
? Si基板上的SiNx
XRD-晶向定位
CVD 真空化學(xué)氣相沉積設(shè)備
自動(dòng)劃片機(jī)
BTF-1200C-RTP-CVD
HSE系列等離子刻蝕機(jī)