粉體行業在線展覽
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皕赫科學儀器（上海）有限公司
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蔭罩掩膜對準器 Shadow Mask Aligner
設備簡介：
本設備可以用于精確和可重建性的對準蔭罩掩膜和晶圓。可以放于真空腔體用于PVD工藝。沉積后，夾盤可以打開，晶圓和掩膜可以不破壞的分離，并且掩膜板可以重復利用。
夾盤可以用于任何基底尺寸以滿足用戶的要求，并且我們也可以提供精確和經濟的由金屬、硅、玻璃、陶瓷等制造的蔭罩掩膜。
產品型號：SMA-100，SMA-150，SMA-200
晶圓和蔭罩尺寸：100mm，150mm，200mm，取決于設備的配置
樣品臺特征：
X和Y方向范圍：步進10μm，靈敏度2μm
Z方向范圍：步進10μm，靈敏度2μm
旋轉角度：360°不間斷
傾斜：工廠校準，工程師手動調節
對準精度（濺射后）
線性對準：典型值6μm， ZUI大值10μm
旋轉對準：0.001°到0.009°
夾盤
晶圓尺寸：100mm，150mm，200mm
夾盤材料：陽極氧化鋁或非陽極氧化鋁
夾盤厚度：20mm取決于晶圓和掩膜的厚度
蔭罩掩膜（客戶可定制蔭罩掩膜）
材料：硅、石英、玻璃、金屬、陶瓷
儀器尺寸：500mm x 250mm
安裝需求：用于對準過程中用來觀察的顯微鏡、真空
注：可以根據用戶的需求進行定制。
優點：
精確和可重建性的PVD涂層構建
用于PVD的減震夾盤
易用、對晶圓無損夾持機構
由于真空夾持，可以在對準的過程簡單操作
可以用于不同的晶圓尺寸
不需要安裝
低運行成本
