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4"高真空RTP爐OTF-1200X-4-RTP-HV是一款精巧型快速熱處理管式爐,配有4"石英管及高真空系統(機械泵+分子泵),是專為半導體或太陽能電池基片(**3")的退火而設計。本機采用10KW紅外燈管加熱,*快升溫速度為50℃/s,設有30段溫度控制,精度為±1℃。此外,通過RS485口和控制軟件可在計算機上實現實時控制和溫度曲線顯示。
控溫儀表操作視頻
產品型號 | 4″高真空RTP爐OTF-1200X-4-RTP-HV |
安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設備配有自循環冷卻水機(加注純凈水或者去離子水) 2、電:AC380V 50Hz(63A空氣開關),必須有良好接地 3、氣:設備腔室內需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶6mm雙卡套接頭) 4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上 5、通風裝置:需要 |
主要特點 | 1、石英樣品架固定在滑動法蘭上,使樣品裝載更加容易。 2、樣品架上放置76mm的AlN基片,承載需要退火的樣品。AIN具有很高的熱導率,可使樣品放置的區域有很好的溫度均勻性(±5℃)。 3、內插式熱偶保證了溫度的準確性。 4、采用PID自動溫度控制,30段程序,并設有過熱和斷偶保護功能。 5、已通過CE認證。 |
技術參數 | 1、電源:爐體單相208V-240V,50Hz/60Hz,10KW 高真空系統AC110V/220V任意切換,50Hz/60Hz,110W 2、爐體結構:雙層莫來石鋼構 3、石英管:外徑?110mm,內徑?103mm,長380mm 4、樣品架:76mm 5、加熱元件:8根紅外燈管,燈絲長200mm,絲圈?10mm,燈長300mm 6、加熱區:102mm×305mm,均勻性±5℃ 7、熱偶:K型熱偶 8、溫度:**溫度1100℃,額定溫度1000℃,在1000℃-1100℃下保溫時間不得超過600s 9、控溫精度:±0.5℃ 10、*快升溫速度:RT-800℃內50℃/s,800℃-1000℃內10℃/s 11、高真空系統氣動時間:2min 12、真空度:6.3×10-5mbar(在40min中) 13、真空法蘭:KF-D25,配有兩個高溫O型圈密封 14、流量計:16ml/min-160ml/min 15、前級泵流速:在10mbar狀態下3.8L/min,50Hz;4.4L/min,60Hz |
產品規格 | 爐體:尺寸760mm×330mm×530mm,重量50kg 高真空系統:尺寸:600mm×600mm×700mm,重量18kg |