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生長納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW是一種緊湊型CVD爐,專為生長各種納米線而設計,基片**3″。在法蘭的左側裝有一個小加熱器,可對輸入的氣體、液體、固體進行預加熱后進入CVD爐進行納米線的生長。其可滑動的樣品架使操作更為簡單。
產品型號 | 生長納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW |
安裝條件 | 本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設備配有自循環冷卻水機(加注純凈水或者去離子水) 2、電:AC380V 50Hz(63A空氣開關),必須有良好接地 3、氣:設備腔室內需充注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶?6mm雙卡套接頭) 4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上 5、通風裝置:需要 |
主要特點 | 1、由OTF-1200X-4單溫區爐演變而來的緊湊型CVD爐。 2、內爐膛表面涂有進口高溫氧化鋁涂層,可以提高設備的加熱效率及延長儀器的使用壽命。 3、帶樣品支架的右法蘭是滑動的,方便樣品的快速取放。 4、左側的小加熱器可對輸入CVD爐的氣體、液體、固體或混合物進行預加熱,不銹鋼加熱腔外徑?30mm、長150mm,**工作溫度600℃。 5、左邊法蘭(在加熱器與CVD爐之間)裝有4個1/4"卡套連結的通氣管,具有密封和氣體通道的作用。 6、PID自整定數字控制器,可以設置30段升降溫程序。 7、選配相關軟件可用計算機進行控溫。 8、已通過CE認證。 |
技術參數 | 1、額定電壓:單相AC220V 50Hz/60Hz 2、額定功率:3KW(需20A的空氣開關) 3、石英管:外管外徑?110mm,內徑?102mm,長381mm 4、加熱區域:CVD爐400mm,加熱器150mm, 5、工作溫度:CVD爐**1100℃(<2h),連續工作200℃-1000℃,**升降溫速率10℃/min;加熱器連續工作0-500℃,**升降溫速率10℃/min 6、控溫精度:±1℃ 7、熱電偶:K型 8、右法蘭:一個3"石英樣品支架,與石英擋板、法蘭連成一體,設有KF25真空快接口,以及水冷接口(可選配水 冷機,避免O型圈融化) 9、左法蘭:有2個獨立1/4″口,可單獨將任何氣體通入爐內,一路1/4"口將預熱氣體通入CVD爐,一路1/4″口將不加 熱的氣體通入爐內,并通過爐內的T型結構與加熱氣體匯合 |
產品規格 | 尺寸:1200mm×450mm×510mm;重量:100kg |
可選配件 | 1、冷水機 2、控溫軟件 |