粉體行業在線展覽
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濱松光子學商貿（中國）有限公司
日本
面議
406
C12562 納米膜厚測量儀系列
特性
可測量10nm薄膜
縮短測量周期（頻率高達100Hz）
增強型外部觸發（適合高速測量）
涵蓋寬波長范圍（400 nm到1100 nm）
軟件增加了簡化測量功能
可進行雙面分析
不整平薄膜精確測量
分析光學常數（n，k）
可外部控制
參數
| 型號 | C12562-02 |
| 可測膜厚范圍（玻璃） | 10 nm to 100 μm*1 |
| 測量可重復性（玻璃） | 0.02 nm*2 *3 |
| 測量準確度（玻璃） | ±0.4 %*3 *4 |
| 光源 | 鹵素燈 |
| 測量波長 | 400 nm to 1100 nm |
| 光斑尺寸 | Approx. φ1 mm*3 |
| 工作距離 | 10 mm*3 |
| 可測層數 | *多10層 |
| 分析 | FFT 分析，擬合分析，光學常數分析 |
| 測量時間 | 3 ms/點*5 |
| 光纖接口形狀 | FC |
| 外部控制功能 | RS-232C， Ethernet |
| 電源 | AC100 V to 240 V， 50 Hz/60 Hz |
| 功耗 | 80W |
*1：以 SiO2折射率1.5來轉換
*2：測量400 nm 厚SiO2 薄膜的標準偏差
*3：取決于所使用的光學系統或物鏡的放大率
*4：可保證的測量范圍列在VLSI標準測量保證書中
*5：連續數據采集時間不包括分析時間
