粉體行業在線展覽
面議
402
C10178-01 納米膜厚測量儀系列
特性
高速、高準確度
實時測量
映射功能
不整平薄膜精確測量
分析光學常數(n,k)
可外部控制
與特定附件配合,可測量量子收益、反射率、透射率以及吸收系數等。
參數
型號 | C10178-01 |
測量模型 | 標準型(通用測量) |
可測膜厚范圍(玻璃) | 20 nm to 50 μm*1 |
測量可重復性(玻璃) | 0.01 nm*2 *3 |
測量準確度(玻璃) | ±0.4 %*3 *4 |
光源 | 鹵素燈 |
測量波長 | 400 nm to 1100 nm |
光斑尺寸 | Approx. φ1 mm*3 |
工作距離 | 10 mm*3 |
可測層數 | *多10層 |
分析 | FFT 分析,擬合分析,光學常數分析 |
測量時間 | 19 ms/點*5 |
光纖接口形狀 | φ12套筒型 |
外部控制功能 | RS-232C, 通過PIPE或Ethernet進行內部軟件數據傳輸 |
接口 | USB2.0 |
電源 | AC100 V to 120 V/ AC200 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz |
功耗 | 250W |
*1:以 SiO2折射率1.5來轉換
*2:測量400 nm 厚SiO2 薄膜的標準偏差
*3:取決于所使用的光學系統或物鏡的放大率
*4:可保證的測量范圍列在VLSI標準測量保證書中
*5:連續數據采集時間不包括分析時間