粉體行業在線展覽
面議
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C11627-01 納米膜厚測量儀系列
特性
無參照物工作
尺寸緊湊,節省空間
高速、高準確度
不整平薄膜精確測量
分析光學常數(n,k)
可外部控制
參數
型號 | C11627-01 |
可測膜厚范圍(玻璃) | 20 nm to 50 μm*1 |
測量可重復性(玻璃) | 0.02 nm*2 *3 |
測量準確度(玻璃) | ±0.4 %*3 *4 |
光源 | LED |
測量波長 | 420 nm to 720 nm |
光斑尺寸 | Approx. φ1 mm*3 |
工作距離 | 10 mm*3 |
可測層數 | *多10層 |
分析 | FFT 分析,擬合分析,光學常數分析 |
測量時間 | 19 ms/點*5 |
光纖接口形狀 | FC |
外部控制功能 | RS-232C,Ethernet |
電源 | AC100 V to 240 V, 50 Hz/60 Hz |
功耗 | 70W |
*1:以 SiO2折射率1.5來轉換
*2:測量400 nm 厚SiO2 薄膜的標準偏差
*3:取決于所使用的光學系統或物鏡的放大率
*4:可保證的測量范圍列在VLSI標準測量保證書中
*5:連續數據采集時間不包括分析時間