粉體行業在線展覽
面議
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特點:
·易于安裝
·基于視窗結構的軟件,很容易操作
·先進的光學設計,以確保能發揮出**的系統性能
·基于陣列設計的探測器系統,以確保快速測量
·獨特的光源設計,有著較好的光源強度穩定性
·有四種方法來調整光的強度:
§ 通過電源的調節旋鈕來調節電源輸出的大小
§ 在光輸出端口濾光槽內調整濾光片來調整
§ 調整光束大小
§ 通過TFProbe軟件,在探測器里調整積分時間
·*多可測量5層的薄膜厚度和折射率
·在毫秒的時間內,可以獲得反射率、傳輸率和吸收光譜等一些參數
·能夠用于實時或在線的厚度、折射率測量
·系統配備大量的光學常數數據及數據庫
·對于每個被測薄膜樣品,用戶可以利用先進的軟件功能選擇使用NK數據庫、也可以進行色散或者復合模型(EMA)測量分析;
·可升級至MSP(顯微分光光度計)系統,SRM成像系統,多通道分析系統,大點測量。
·通過模式和特性結構直接測量。
·能夠應用于不同類型、不同厚度的基片測量。
·提供的各種配件可用于特殊結構的測量,例如通過曲線表面進行縱長測量。
·2D和3D的圖形輸出和友好的用戶數據管理界面。
系統配置:
· 型號:SR500R
·雙探測器:對于紫外可見光用CCD,對于近紅外使用InGaAs探測器
· 光源:氘和鹵素燈
·光傳送方式:光纖
·臺架平臺:特殊處理鋁合金,能夠很容易的調節樣品重量,200mmx200mm的大小
· 軟件:TFProbe 2.2版本的軟件
· 通訊接口:USB的通訊接口與計算機相連
· 測量類型:薄膜厚度,反射光譜,折射率
· 電腦硬件要求:P3以上、*低50 MB的空間
·電源:110–240V AC/50-60Hz,1.5A
· 保修:一年的整機及零備件保修
規格:
· 波長范圍:250nm到1700 nm
· 光斑尺寸:500μm至5mm
· 樣品尺寸:200mmx200mm或直徑為200mm
· 基板尺寸:*多可至50毫米厚
· 測量厚度范圍*:2nm?150μm
· 測量時間:*快2毫秒
· 精確度*:優于0.5%(通過使用相同的光學常數,讓橢偏儀的結果與熱氧化物樣品相比較)
· 重復性誤差*:小于1A
應用:
· 半導體制造(PR,Oxide, Nitride..)
· 液晶顯示(ITO,PR,Cell gap... ..)
· 醫學,生物薄膜及材料領域等
· 油墨,礦物學,顏料,調色劑等
· 醫藥設備
· 光學涂層,TiO2, SiO2, Ta2O5... ..
· 半導體化合物
· 在MEMS/MOEMS系統上的功能性薄膜
· 非晶體,納米材料和結晶硅