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韓國SAM離子濺射儀G20

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瑞匯企業(yè)有限公司

韓國

產(chǎn)品規(guī)格型號
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面議

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760

產(chǎn)品介紹

該設(shè)備在非導(dǎo)電和微導(dǎo)電試樣表面制造等離子體形成金屬薄膜,是電子顯微鏡(SEM)分析時必須進行的預(yù)處理設(shè)備。

主要特點

1.7英寸觸摸屏,操作更簡單

2.抽真空→ 自動噴金 → 卸真空 觸摸一步完成

3.*多可以儲存10個常用使用條件

4.可以同時裝載Φ14㎜ 大小的樣品托

5.電壓值為1 to 10mA,防止噴金過程中樣品損傷

6.外觀設(shè)計小巧簡約,只需一點點放置空間

Vacuum Degree 2.0 x 10-2torr

Ion Current 1 to 10mA (1mA/step)

Target Material Au or Pt

Chamber Size Φ140mm(D) x 100mm(H)

Sample Stage Φ50mm(D) x 30mm(H)

Target Size Φ50mm(D) x 0.1(T)

Sputter Time 1 to 600sec (1sec/step)

Vacuum Pump 100L/min, Rotary Pump (Recommended)

Dimension 380(W)x 240(L) x 250(H)mm, 10kg

如需進一步了解,請電郵topmat@top**********, 謝謝

產(chǎn)品咨詢

韓國SAM離子濺射儀G20

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