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美國PIE Scientific LLC公司出品的SEMI-KLEEN 等離子清洗儀, 采用低壓清洗技術,可清洗各種類型電子或者離子顯微鏡,深紫外光刻機,電子光刻系統等真空儀器。
本儀器由一個LCD觸摸屏控制器和一個遠程射頻(RF)等離子源組成,遠程等離子源通過一個KF40真空法蘭連接到待清洗真空室,有轉接法蘭提供。主要用于清洗各種掃描電鏡(SEM),透射電鏡(TEM),聚焦離子系統(FIB),離子顯微鏡(HIM)等真空系統中碳氫及其他污染。同時清洗真空腔體和樣品。(詳情請咨詢PIE中國總代理南京覃思科技有限公司)
一. 特有功能
1. 優越的等離子技術,可以在小于0.1毫托的氣壓下點火并且保持穩定的等離子體。*低工作氣壓比其他同類產品低10到100倍。低氣壓清洗速度更快,更均勻,對電子槍和分子泵更安全;
2. 即時等離子起輝技術。不用像在其他同類產品上那樣擔心等離子是不是成功起輝;
3. 帶氣壓計的自動氣體流量控制;
4. 實時測量等離子強度,用戶可以根據這個實時反饋來優化清洗配方;
5. 自動射頻匹配實時保證**化射頻耦合,即使用戶調節清洗配方;
6. **保護的雙層顆粒過濾器設計保證我們的產品滿足Intel,臺積電,三星等半導體用戶的嚴格顆粒污染要求;
7. 帶LCD觸摸屏的直觀操作界面;
8. 微電腦控制器帶可修改的智能清洗計劃,設好就自動清洗您的系統;
9. 支持清洗配方,一鍵開始,自動射頻匹配,自動控制氣體流量;
10. 微電腦控制器可記錄所有信息狀態,便于系統維護。
二. 技術指標
1. 等離子源真空接口:NW/KF40 法蘭; 提供轉接法蘭;
2. 標配等離子強度傳感器;
3. 等離子源*低點火起輝氣壓:<0.1毫托;
4. 等離子源**工作氣壓:>1.0 托;
5. 漏氣率:<0.005sccm;
6. 射頻輸出:0~100瓦,連續可調節;
7. 具有射頻自動匹配功能
8. 電源和功率:110V/220V, 50/60 Hz, 200 瓦
FORJ
德國MicroTec—CUT4055
PD-10電鏡粉末制樣儀
全自動切片機
YPZ-GZ110L
SPEED wave
ZYP-X60T
XHLQM-30
Spex 3636 X-Press? 實驗室用自動壓片機