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1200高真空PECVD系統

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上海煜志科技有限公司(杭州嘉悅智能設備有限公司)

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產品介紹

簡介

PECVD工藝中由于等離子體中高速運動的電子撞擊到中性的反應氣體分子,就會使中性反應氣體分子變成碎片或處于激活的狀態容易發生反應;借助射頻等使含有薄膜組成原子的氣體,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發生反應,在基片上沉積出所期望的薄膜;具有基本溫度低、沉積速率快、成膜質量好、針孔較少、不易龜裂等優點;

1200℃高真空PECVD系統通過滑動爐體來實現快速的升降溫,配置不同的真空系統來達到理想的真空度;同時通過多路高精度質量流量計控制不同氣體。 主要應用于高校、科研院所用于真空鍍膜、納米薄膜材料制備,生長薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復合薄膜等,也可作為擴展等離子清洗刻蝕使用。同時上海煜志良好的售后服務,使得該產品的整體評價遠超同行業標準。

主要技術參數

爐體結構

整機采用SUS304不銹鋼材質,流線型外觀,斷熱式結構;

日本技術真空吸附成型的優質高純氧化鋁多晶纖維固化爐膛,保溫性能好;

爐子底部裝有一對滑軌,移動平穩;

爐子可以手動從一端滑向另一端,實現快速的加熱和冷卻;

爐蓋可開啟,可以實時觀察加熱的物料

尺寸重量

1730*660*1130mm;凈重:210kg

電源

電壓:AC220V 50/60Hz;功率:4KW

爐管

高純石英管,高溫下化學穩定性強,耐腐蝕,熱膨脹系數極小;

尺寸:Φ60*1300mm

法蘭及支撐

SUS304不銹鋼快速法蘭,通過用高溫“O”型圈緊密密封可獲得高真空;

一個卡箍就能完成法蘭的連接,放、取物料方便快捷;

可調節的法蘭支撐,平衡爐管的受力支撐;

包含進氣、出氣、真空抽口針閥,KF密封圈及卡箍組合

加熱系統

加熱元件采用康泰爾發熱絲,表面負荷高、經久耐用;

加熱區長度:300mm

恒溫區長度:150mm;

工作溫度:≤1150℃;

**溫度:1200℃;

升溫速率:10℃/min

溫控系統

日本富士溫控儀表,64段控溫程序,可分步、分段

混氣系統

三路質量流量計:數字顯示、氣體流量自動控制;內置不銹鋼混氣箱,每路氣體管路均配有逆止閥;管路采用不銹鋼管,接口為Φ6卡套;每路氣體進氣管路配有不銹鋼針閥;通過控制面板上的旋鈕來調節氣體流量流量規格:0~1000sccm(可選); 流量精度:±1.5%

高真空系統

采用雙級旋片真空泵+分子泵,極限真空可達4.0*10^-4Pa; 復合真空計,配置電阻規+電離規

抽速:110L/S; 冷卻:風冷; 電源:AC220V 50/60Hz

射頻電源系統

輸出功率:0-300W;功率穩定度:±0.1%;射頻電源頻率:13.56MHz 穩定性±0.005%;**反向功率:120W;射頻電源電子輸出端口:UHF; 冷卻:風冷; 電源:AC187-253V 50/60Hz

可選配件

各種剛玉、石英坩堝,石英管,計算機控制軟件

保修卡

整機一年保修(相關耗材除外)

可根據客戶要求定制!

產品咨詢

1200高真空PECVD系統

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